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薄膜分析 X射线衍射对于研究外延层和其他薄膜材料具有特殊价值。采用精密的晶格参数的测量方法，可以很准确的确定晶格的外延层及其基底。在外延器件中晶格参数匹配或不...
薄膜分析
X射线衍射对于研究外延层和其他薄膜材料具有特殊价值。采用精密的晶格参数的测量方法，可以很准确的确定晶格的外延层及其基底。在外延器件中晶格参数匹配或不匹配是一个重要因素如磁泡存储器的磁性石榴石薄膜，LED用掺杂砷化镓薄膜和高速晶体管和其他重要的电子产品。对于薄膜X射线衍射的另一个应用是使用高温衍射通过测定晶格参数随温度的变化来确定热膨胀系数。
X射线衍射仪安装Göbel镜后，照射到样品入射线平行度提高到0.1°以下，可实现对薄膜样品进行XRR、GIXRD测量，如下图所示：
薄膜掠入射分析（GIXRD）：精确分析多层膜中材料的组成、次序、取向等；
薄膜反射分析(XRR)：针对多晶、单晶多层薄膜厚度、密度、粗燥度进行精确分析；
TaC/SiC = 4 nm/1.2 nm薄膜样品 XRR测量
TaC/SiC = 4 nm/1.2 nm薄膜样品GIXRD测量
TaC/SiC = 4 nm/1.2 nm薄膜样品XRD测量
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